TRUMPF TruPlasma RF 1000 Serie - 3 kW Generator

Der 3 kW-Generator aus der TruPlasma RF 1000 Serie von TRUMPF gilt in Fertigungslinien der Halbleiter- und PV-Industrie als robustes Arbeitssystem für stabile Prozesse. In Anlagen für Ätz- und Beschichtungsverfahren liefert er eine konstante HF-Leistung bei 13,56 MHz und unterstützt damit Strukturen, die hohe Kontrolle über Energieeintrag und Prozessstabilität erfordern. Der Generator wird international in Nordamerika, Europa und Asien eingesetzt und hat sich dort als verlässliche Plattform etabliert.

TruPlasma RF 1000 Generatorleistung bei 13,56 MHz

Der Generator stellt bis zu 3 kW Ausgangsleistung bereit und arbeitet auf der gängigen Basisfrequenz von 13,56 MHz. Die wassergekühlte Bauweise stabilisiert die thermische Belastung im Dauerbetrieb, was in Anlagen für Plasma- und Ätzprozesse eine zentrale Rolle spielt. Durch die konstante Versorgung der Prozesskammer lassen sich reproduzierbare Schichten sowie definierte Ätzgeometrien erzielen, die in der Mikroelektronik und der optischen Industrie gefordert sind.

Plasmagenerator mit Präzision und Effizienz im industriellen Einsatz

In der Halbleiterfertigung entscheidet die Genauigkeit der Energiezufuhr darüber, ob Strukturen später zuverlässig funktionieren. Der Generator adressiert diese Anforderungen mit einer hohen elektrischen Effizienz und präziser Leistungsführung. Hersteller nutzen diese Eigenschaften für kontrollierte Ätzprofile und homogene Beschichtungen – sowohl in der klassischen Halbleitertechnik als auch in Bereichen wie optischen Komponenten oder Photovoltaikmodulen.

Multilevel Pulsing bis 400 kHz

Ein zentrales Feature des Systems ist das Multilevel Pulsing. Pulsfrequenzen bis 400 kHz, verschiedene Pulsniveaus sowie definierbare Ramp- und Burstfunktionen erlauben Prozessmuster, die exakt an kundenspezifische Anforderungen angepasst werden. Die Pulsprofile lassen sich so gestalten, dass Energieeintrag, Reaktionsverhalten und Plasmaeigenschaften präzise steuerbar bleiben.

Generator Analysefunktionen und Feldbus-Integration

Für den Betrieb stehen Feldbusschnittstellen wie Ethernet-basierte Systeme, WEISSnet oder PROFINET zur Verfügung. Zusätzlich kann ein Laptop direkt mit dem Generator verbunden werden, um Live-Analysen der Prozessparameter zu erhalten. Der Nutzer sieht Smith-Charts, Pulsmuster und Trendkurven in Echtzeit und kann Werte unmittelbar anpassen. Externe Messpunkte lassen sich einbinden, sodass komplette Prozessverläufe dokumentierbar werden – eine Funktion, die bei der Optimierung und bei der Fehlersuche deutliche Vorteile bringt.

TRUMPF Zukunftssicherheit durch kundenspezifische Anforderungen

Die Anforderungen in der Mikroelektronik entwickeln sich stetig weiter. Deshalb wird der Generator als System verstanden, das gemeinsam mit den Anwendern weitergeführt wird. Individuelle Prozessvorgaben bestimmen zunehmend die Entwicklungsrichtung, und TRUMPF reagiert darauf, indem Funktionen, Schnittstellen und Analysewerkzeuge kontinuierlich angepasst werden. Ziel bleibt eine Lösung, die auch langfristig dort eingesetzt wird, wo präzise Hochfrequenzenergie benötigt wird.