Digitales Lithographiesystem LITHOSCALE XT der EV Group auf der Semicon

von Jürgen Groh - 2025-12-02

EV Group nutzt die Semicon, um zentrale Technologien für die Halbleiterfertigung vorzustellen. Im Mittelpunkt steht in diesem Jahr ein digitales Lithographiesystem, das die bisherigen Verfahren in Geschwindigkeit und Flexibilität deutlich erweitert. Der Anlagenhersteller betont, wie eng technologische Entwicklung, Kundenanforderungen und langfristige Innovationsprozesse miteinander verknüpft sind.

Digitales Lithographiesystem Halbleiterfertigung EV Group

Digitale Lithographie als Schwerpunkt der EV Group

Das Unternehmen zählt seit Jahren zu den bekannten Herstellern von Anlagen für Lithographie und Wafer-Bonding-Verfahren. Besonders die optische Lithographie prägt das Portfolio. Der jetzt präsentierte LITHOSCALE XT markiert die Weiterentwicklung eines Systems, das bereits zuvor als technologischer Schritt galt: Die frühere Version konnte rund zehn Wafer mit 300 Millimetern Strukturgröße pro Durchlauf bearbeiten und dabei Auflösungen im Bereich von zwei Mikrometern erzielen.

LITHOSCALE XT digitales Lithographiesystem
Digitale Lithographiesystem LITHOSCALE XT von EV Group steigert die Wafer Produktivität

LITHOSCALE XT setzt neue Maßstäbe bei Geschwindigkeit und Flexibilität

Die neue Generation wurde erst vor kurzer Zeit vorgestellt und erhöht die Produktionsleistung auf bis zu 60 Wafer pro Stunde. Dieser Sprung führt zu einer klaren Positionierung im Industriestandard. Entscheidender ist jedoch die digitale Arbeitsweise des Systems: Jeder Wafer kann individuell beschrieben werden, ohne auf feste Reticles angewiesen zu sein. Dadurch entstehen Spielräume für Anwendungen in Kryptographie, Sicherheitsmerkmalen oder Strukturen, die auf veränderliche Substratbedingungen reagieren müssen.

Digitales Lithographiesystem LITHOSCALE XT der EV Group

Vollständige digitale Maskenebene als technisches Alleinstellungsmerkmal

Während klassische Stepper mit festen, wiederholten Belichtungsfeldern arbeiten, behandelt das digitale System den gesamten Wafer als veränderbare Maske. Jede Scheibe kann unterschiedliche Muster erhalten, ohne dass physische Masken angepasst werden müssen. Dieses Prinzip gilt als ein zentrales Alleinstellungsmerkmal, da es Fertigungsprozesse beschleunigt und zugleich individualisiert. Gerade in Bereichen, in denen Verzerrungen oder Varianzen im Material auftreten, ermöglicht die Technologie unmittelbares Gegensteuern.

Forschung, Entwicklungszyklen und der globale Wettbewerb

EV Group hebt hervor, wie stark Forschung und kundenzentrierte Produktentwicklung das eigene Geschäftsmodell prägen. Neue Maschinen durchlaufen lange Entwicklungsphasen mit mehreren Jahren zwischen Idee und Marktreife. Der Innovationsdruck ist hoch, da die Halbleiterindustrie global um führende Positionen ringt und große Wettbewerber vor allem in den USA und Asien aktiv sind. Für Europa sieht das Unternehmen dennoch ein stabiles Fundament – getragen von Prozesstechnologien und kontinuierlicher Innovationsarbeit.

EV Group Fortschritt digitale Lithographie Semicon München

Europäische Perspektive auf Technologieführerschaft

Die Halbleiterbranche bleibt ein globaler Markt, in dem Geschwindigkeit und technologische Tiefe über die Positionierung entscheiden. EV Group verweist darauf, dass langfristige Visionen und die konsequente Weiterentwicklung von Prozesstechnologien der Weg sind, um Marktführerschaft zu behaupten. Innovation ist dabei nicht nur ein Anspruch, sondern nach Einschätzung des Unternehmens der wesentliche Schutzfaktor im internationalen Wettbewerb.