VAT Ventiltechnologie für präzise Druckregelung in der Halbleiterfertigung

In der Halbleiterproduktion entscheidet die Stabilität von Druckverhältnissen über die Qualität ganzer Prozessschritte. Das gezeigte Ventil von VAT zählt seit Jahrzehnten zu den meistgenutzten Lösungen in diesem Umfeld. Die neueste Generation kombiniert höhere Geschwindigkeit, präzisere Bewegung und eine moderne Controller-Architektur, die langfristige Anlagenstabilität und Ersatzteilversorgung sicherstellt.

VAT Ventil mit neuer Generation von Controller und Activator

Das präsentierte Ventil gilt als High Runner, weil es über viele Jahre hinweg in verschiedensten Anlagen zuverlässig arbeitet. Die aktuelle Ausführung ist mit einer neuen Generation von Controller und Activator ausgestattet, die eine noch schnellere und zugleich feinfühligere Druckregelung ermöglicht. Die Maschine ist darauf ausgelegt, Druckkurven exakt gemäß Prozessvorgaben zu fahren, ohne Verzögerungen oder Unregelmäßigkeiten. Gerade in Verfahren wie dem Bosch-Prozess, bei dem jede Feinheit der Druckdynamik entscheidend ist, wird hohe Präzision zum zentralen Qualitätsfaktor. Die Weiterentwicklung betrifft nicht nur die Geschwindigkeit, sondern auch die Bewegungsschärfe. Das Ventil reagiert auf minimale Änderungen im Sollwert und hält den Prozessraum in einem stabilen Druckfenster, selbst bei schnellen Lastwechseln.

IC2 Controller bringt Zukunftssicherheit und stabile Versorgungslage

Ein wesentlicher Punkt betrifft die langfristige technische Absicherung. Der frühere IC1 Controller ist bereits seit längerer Zeit nicht mehr verfügbar, wodurch die Ersatzteilversorgung zunehmend schwieriger wurde. Mit dem neuen IC2 Controller stellt VAT die Zukunftssicherheit sicher: Die Plattform ist langfristig ausgelegt, unterstützt moderne Steuerungslogiken und gewährleistet eine kontinuierliche Versorgung mit kompatiblen Bauteilen. Für Betreiber in der Halbleiterindustrie ist das entscheidend, weil Produktionslinien selten in kurzen Zyklen ersetzt werden.

Funktionsprinzip zwischen Prozesskammer und Vakuumpumpe

Das Ventil sitzt typischerweise zwischen Prozesskammer und Vakuumpumpe. Seine Aufgabe besteht darin, definierte Druckverhältnisse und genau vorgegebene Druckkurven einzuhalten. Dafür öffnet und schließt das Gate abhängig vom Prozesszustand und folgt den jeweiligen Vorgaben der Anlage. Je nach System sind unterschiedliche Kommunikationsprotokolle im Einsatz – etwa DeviceNet, serielle Anbindung oder Profibus. Diese Variabilität erleichtert die Integration in bestehende Fertigungsarchitekturen.

Materialvielfalt, Größen und konfigurierte Beschichtungen

Das Produkt ist in mehreren Größen verfügbar und deckt unterschiedliche Durchmesser ab. Anwender können zudem aus variablen Materialoptionen, Dichtwerkstoffen und Beschichtungen wählen, um das Ventil an chemisch anspruchsvolle, thermisch belastete oder besonders sensible Prozesse anzupassen. Die flexible Auslegung ermöglicht den Einsatz in unterschiedlichsten Kammerdesigns.

Selbstlern-Algorithmus und Refurbishment für lange Einsatzdauer

Ein integrierter Selbstlern-Algorithmus überwacht das Regelverhalten und optimiert die Steuerung laufend. Dadurch bleibt die Präzision auch nach langen Einsatzzeiten erhalten. Zusätzlich legt VAT in der neuen Generation besonderen Wert auf Servicefreundlichkeit. Dazu gehört ein Fixed Price Refurbishment Programm, das die Überholung der Ventile planbarer macht und die Betriebskosten in der Linie stabil hält.